10月18日早消息,三星方面正式宣布,已经开始进行7nm LPP工艺芯片的量产工作。
三星的7nm LPP工艺主要采用了EUV光刻技术,该技术使用极紫外光刻(EUVL)制作选择层。全新的制造工艺可以进一步提升芯片的晶体管密度,带来更低的功耗,并且在EUV技术的帮助下,芯片量产效率也会进一步提高。
对比上一代10nm FinFET,三星新一代的7nm LPP可以实现面积能效(同样复杂为量纲)提升40%、性能增加20%、功耗降低最多50%。三星基于EUV技术的7nm LPP工艺成功量产也为后续更进一步的5nm、3nm铺好了路,目前三星7nm LPP工艺下,日产能约1500片。
高通和三星新一代的处理器将会采用此工艺,7nm工艺的手机处理器就要来了,看看隔壁Intel还在打磨14nm,英特尔真的不能再挤牙膏了了。
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