videocardz消息,三星开发出业界首个基于HKMG的DDR5内存,该内存是带宽密集型高级计算应用程序的理想选择。三星称,八层TSV结构使512GB容量的DDR5模块成为可能。HKMG材料将功耗降低了13%,速度比DDR4快一倍。
三星今天宣布,它已开发出业界首个基于High-K Metal Gate(HKMG)工艺技术的512GB DDR5内存。新型DDR5在性能方面是DDR4的两倍以上,最高可达7200MHz,能够满足超级计算机、人工智能(AI)和机器学习等要求很高的计算需求。
三星DDR5将采用HKMG技术,该技术曾在逻辑半导体中使用。随着DRAM结构的不断缩小,绝缘层变薄,漏电可能性增大。三星DDR5内存通过使用HKMG材料,可以减少漏电并拥有更强性能。这款新的内存还将减少大约13%的功耗,使其特别适用于对能源效率要求很高的数据中心。
三星DDR5利用硅穿孔(TSV)技术,堆叠了八层16Gb DRAM芯片,可提供最大512GB的容量。
三星目前已向客户提供其DDR5内存产品系列的不同变体SKU,以供客户试用。
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