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EUV光刻机开辟第二战场 新一代内存2024年量产

2021-08-21 10:55:12 来源：快科技 作者：宪瑞 编辑：柠萌皝　浏览：loading

CPU、GPU为代表的逻辑工艺制程进入7nm之后，EUV光刻工艺是少不了的，现在内存还停留在10nm工艺级别，暂时没用到EUV工艺。不过三星、SK海力士及美光也确定未来会用，其中美光的EUV工艺内存在2024年量产。

美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采访中确认，美光已将EUV技术纳入DRAM技术蓝图，将由10nm世代中的1γ（gamma）工艺节点开始导入。

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美光EUV工艺DRAM将会先在台中A3厂生产，预计2024年进入量产阶段。

注意，这个是1γ工艺，不是之前的1y工艺，10nm级别的内存工艺中前三代是1x、1y、1z，再往后是1a、1β、1γ等。

在美光之前，三星及SK海力士都更早进入了EUV节点，从去年底就开始部署EUV光刻工艺了，而且比美光更激进，最快在1a工艺节点就会量产EUV内存芯片。

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