防技术外泄 美光解散上海DRAM团队：核心员工移民美国

近日业内有消息指出，美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心，并挑选了40多位核心研发人员提供移民技术美国的资格。

据悉，美光此次并非解散整个上海研发中心，而是解散了拥有100多人的DRAM设计部门，除了该团队，美光上海研发中心还有销售、测试等多个部门。

消息称，上海的DRAM设计团队的解散将于今年内完成，部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国，目前尚且无法确定有多少员工会选择移民。

据一位前美光员工透露，美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂。某半导体行业高管分析称，此次美光解散DRAM设计团队很可能是出于防止技术外泄的考虑。

该行业高管指出，美光对知识产权保护十分重视，此前美光就曾因商业机密泄露将联电告上法庭。不过在2021年11月26日，美光与联电共同宣布达成全球和解协议，将各自撤回向对方提出的诉讼，联电将向美光一次支付金额保密的和解金，双方在声明中均称，期待未来达成共同的商业合作机会。