近日,台积电在拿到苹果订单后,3nm工艺后发先至,超越了三星3nm。
目前苹果用的是第一代3nm,也就是N3工艺,相比于5nm工艺,3nm工艺的逻辑密度将增加60%,相同速度下功耗降低30-35%,这是世界上最先进的技术。
其他厂商要等第二代3nm,也就是N3E工艺,对比N5同等性能和密度下功耗降低34%、同等功耗和密度下性能提升18%,或者可以将晶体管密度提升60%,密度比N3还缩水一些,但是成本也低。
那苹果包圆的3nm工艺现在进展到底如何?消息人士透露,位于南科18B的3nm晶圆厂现在已经可以做到日投片量1000片,超过1000片的产量很重要,通常意味着芯片真正进入了量产阶段。
有关台积电及三星的3nm良率一直都是个谜,此前的传闻说是三星的3nm良率仅有10-20%,台积电的3nm良率可达70-80%,然而后者的良率也太高了,又被戳穿实际上只有不到50%良率。
不过随着投片量超过1000片晶圆,台积电3nm良率争议应该可以告一段落了,至少用于生产已经没什么大问题了。
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