9月18日,据媒体报道称,台积电将在2024年正式取得ASML(阿斯麦)的下世代极紫光微影设备(High-Na EUV)。
媒体认为,这将对台积电推进2nm制程工艺量产提供巨大的帮助。台积电业务开发副总裁张晓强曾表示,台积电在取得High-NA EUV光刻设备后初期将会与合作伙伴用于共同研究。
除去台积电以外,三星也有计划引进该设备,英特尔也宣布已与ASML签署合同购买5台该设备。媒体预计2nm制程工艺可能会在2025年左右正式量产。
据悉,High-NA EUV光刻机的预估单价为4亿美元(约合人民币27.94亿元),是目前现有EUV光刻机单价的2倍以上。
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