据报道,有消息称苹果已成功获得屏下Face ID相关专利,突破了屏下摄像头的技术瓶颈。
屏下Face ID的核心挑战在于提高红外光的透光率。尽管红外光能够穿透显示屏,但透射效率极低,若直接将摄像头放置于屏幕下方,会导致人脸识别速度减慢,安全性也受到影响。
苹果的新专利通过创新设计,移除部分子像素,使红外光能够更顺畅地穿过屏幕盖板,从而实现高效的屏下人脸识别。
据悉,这项技术最快将在2026年的iPhone 18系列中首次亮相。届时,iPhone或将采用单挖孔屏设计,彻底告别现有的药丸屏方案,为用户带来更纯粹的全面屏体验。
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