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华为EUV光刻机专利公布 可解决相干光无法匀光问题

2022-12-21 14:52:15 来源：互联网 作者：西辣蛋拌面 编辑：西辣蛋拌面　浏览：loading

近日，国家知识产权局公布了华为技术有限公司一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”的专利。

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信息显示，该专利申请日期为2021年5月13日，专利申请号202110524685.X。专利申请公布号CN115343915A，申请公布日为2022年11月15日。

从公布的内容来看，该项专利与EUV光刻机有关，可解决相干光无法匀光的问题，专利摘要内容如下：

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本申请提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法，涉及光学领域,能够解决相于光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题；该反射镜的反射面包括多个微反射面；多个微反射面中包括第一微反射面以及与第一微反射面相邻的第二微反射面；第一做反射面与第二做反射面之间具有高度差Δh，高度差Δh位于(0,k)的区间内；其中，入为极紫外光的波长:k为大于或等于1的正整数。

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