原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度,去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus,计划2025年试产2nm工艺,而且很快就筹备了EUV光刻机。
日本当前的逻辑工艺还在28nm以上,但是Rapidus公司选择跳过中间的工艺,直接搞2nm工艺,而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机,不论研发还是制造都要先买设备。
Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露,他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备,不过具体的型号及进度没有说明,不确定是ASML的哪款EUV光刻机,何时安装、测试也没公布。
Rapidus公司成立了仅仅9个月多,不到一年时间就筹备完成EUV光刻机,进度确实很快。
小池淳义表示,通常大规模量产先进工艺需要至少1000名工程师,但他们引入了AI和自动化技术,现在有500名工程师了,用一半的资源就能完成。
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